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FAANG、半導體及科技產業新聞
市場情緒分析
樂觀 📈
ASML vs. 應用材料:誰才是AI晶片設備股的更佳選擇?
在半導體資本支出的浪潮中,荷蘭曝光設備龍頭ASML(NASDAQ:ASML)與美國半導體設備大廠應用材料(NASDAQ:AMAT)雖然販售不同機台,卻共同爭奪投...
ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產
全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電(TSMC)近日共同宣布一項重大合作倡議,將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩(photomask)規格,全面轉...
AI晶片競賽背後的真正霸主:為何ASML才是人工智慧浪潮中最關鍵的半導體股?
輝達(NVIDIA)與超微(AMD)無疑是當前人工智慧(AI)晶片設計領域的兩大領導者,兩家公司擁有令人印象深刻的客戶基礎,涵蓋主要超大規模雲端業者、AI企業及...
ASML vs Intel:2026年AI浪潮下,半導體設備霸主與晶片製造老將的終極對決
隨著人工智慧在2026年重塑晶片產業,半導體公司正重新定義自身的角色。在艾司摩爾(ASML)與英特爾(Intel)之間做出投資選擇,需要深入理解這個產業中「不可...
台積電股價勁揚2.5%!華爾街多家投行看多,現在是進場時機嗎?
台積電(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.,NYSE:TSM)週一中段交易股價強勢上漲2.5%,盤中...
台積電股價飆漲2.5%突破445美元 法人喊進時機已到?
台灣積體電路製造股份有限公司(NYSE:TSM)週一股價強勢走高,單日漲幅達2.5%。盤中最高價來到445.72美元,終場收在445.33美元。中盤交易量約98...
ASML攜手台積電、英特爾、三星等晶片巨頭 擴大光罩尺寸布局更大AI晶片
根據Reuters於2026年9月8日的報導,ASML Holding N.V.(NASDAQ:ASML)計畫與其主要客戶合作,調整旗下下一代「High NA」...
英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量 超車所有競爭對手總和
英特爾近日宣布,其晶圓廠已處理超過100萬片採用高數值孔徑(High-NA)極紫外光(EUV)微影技術的晶圓,此里程碑超越了所有其他半導體製造商在相同技術上的累...
英特爾High-NA EUV晶圓產量突破百萬片 佔全球總量約74%遙遙領先對手
英特爾(Intel)與艾司摩爾(ASML)在近日於加州蒙特雷舉行的SPIE光罩技術與EUV微影研討會上聯合宣布,英特爾已在ASML的High-NA EUV掃描機...
KXCO本體論曝露的真相:當大盤原地踏步時,這十檔AI股票早已起跑
2026年9月11日,我們的本體論在人工智慧產業標記了一批新的紀錄條目。從8月25日到9月10日收盤的十六天內,那斯達克綜合指數幾乎紋絲未動,微跌0.27%。然...
Key Takeaways
- KXCO AI本體論追蹤393家實體與869條帶源聲明,8月25日至9月10日那斯達克僅跌0.27%,但系統涵蓋名單中Intel飆漲14.68%、Meta漲13.04%、Oracle漲5.65%等表現亮眼,而中國AI股百度、騰訊、阿里巴巴則逆勢下跌。
- Oracle為最經典案例:股價三個月重挫24%,但合約待執行義務(RPO)從4550億美元一路攀升至6640億美元,本體論以帶日期的時間序列完整保留此分歧,使投資人能在事件發生前看見訊號。
- 本體論無法回答主權意圖問題:阿里巴巴、騰訊、百度雖具備優異工程實力與顯著分析師上行空間,但夾在美中兩國政府政策之間的政治風險,是機器無法量化、最終仍須由人判斷的決定性變數。
SEMICON Taiwan盛大登場供應鏈暗冠軍齊亮相 華為與蘋果摺疊機大戰一觸即發
各位讀者大家好,我是鄭婷芳,從台北為您主持本週的#techAsia專欄。我剛結束與同事李立瑜(Lauly Li)連續數日報導SEMICON Taiwan(國際半...
ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術 目標2033年量產、生產力提升40%
ASML正與客戶合作,研發適用於下一代High-NA(高數值孔徑)EUV微影設備的更大光罩格式。這項變革有望使該系統在打造最大型的AI與資料中心晶片時更加實用。...
中國晶片廠囤三年ASML設備避險 華為領軍衝刺國產光刻機突圍
中國開源權重AI模型正逼近在價格與效能上超越美國封閉權重的前沿模型。根據Artificial Analysis春季智能指數,排名前十的開源權重模型全數來自中國實...
英特爾晶圓代工攜手ASML達成百萬晶圓里程碑 High-NA EUV技術進入量產新紀元
在本週於蒙特雷舉行的SPIE光罩與EUV光刻技術會議(SPIE Photomask Technology + EUV Lithography conferenc...
Key Takeaways
- 英特爾晶圓代工與ASML於SPIE光罩與EUV光刻技術會議中宣布,雙方在High-NA EUV平台上已累計處理超過100萬片300mm晶圓,涵蓋設備安裝、研發校準、PDK開發及早期限量生產階段
- 英特爾確認High-NA EUV已部署於Core Ultra Series 3處理器(Panther Lake,採用Intel 18A製程)的關鍵層,採取選擇性導入策略,僅在最關鍵的微影層使用0.55 NA設備,以攤提高額營運成本
- 相較於台積電、三星採取保守態度、將0.33 NA多重曝光延伸至初期2奈米世代,英特爾率先於2024年安裝首部商用EXE:5000,憑藉Panther Lake的優異良率,在製程執行力上取得領先地位
台積電導入High-NA EUV計畫曝光 ASML迎催化劑但投資人面臨兩條不同時間軸
荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.,NASDAQ:ASML)與晶圓代工龍頭台積電(Taiwan Semiconductor Manu...
ASML結盟台積電、三星、英特爾 升級High-NA EUV機台搶攻AI晶片商機
全球半導體曝光設備龍頭艾司摩爾(ASML)正聯手台積電等晶片製造商,組成策略聯盟,共同升級其最先進的High-NA EUV曝光機,目標是加速AI晶片的生產。這台...
ASML攜手台積電升級High-NA EUV機台 加速AI晶片製程演進
晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)正積極籌組晶片製造商聯盟,計劃與晶片大廠台積電(TSMC)攜手合作,全面升級其最先進的極紫外光(High-NA EUV)曝光機...
華為扛下中國半導體自主化大旗 DUV曝光機仍難擺脫德國蔡司鏡片
中國打造自有晶片製造設備的長期努力,如今終於有了統籌者——答案就是華為。然而,這台被寄予厚望的主力機台,核心光學元件仍依賴德國蔡司(Zeiss)供應的鏡片。 ...
台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用
多年來,台積電一直盡量避免公開評論其採用數值孔徑0.55的EUV曝光技術(即High-NA EUV)的相關計畫,因為該公司的研發團隊深知如何在不使用造價高達4億...
高通攜AWS開發客製AI晶片 ASML與台積電推動12吋光罩轉型 英特爾股價飆漲9.5%
美股半導體類股在午後交易中集體走強,主因高通宣布與亞馬遜雲端服務(AWS)達成多年期產品合作,共同開發客製化AI資料中心基礎設施,同時ASML、台積電與英特爾在...