中國晶片廠囤三年ASML設備避險 華為領軍衝刺國產光刻機突圍

中國開源權重AI模型正逼近在價格與效能上超越美國封閉權重的前沿模型。根據Artificial Analysis春季智能指數，排名前十的開源權重模型全數來自中國實驗室，且表現最佳者與領先封閉模型的差距僅剩六分；中國模型更在6月初於OpenRouter平台上的token市占率超越美國同業。這一切成果，卻是在美國自2022年10月以來刻意限制中國取得最先進硬體的不對稱劣勢下所達成。

首輪出口管制鎖定Nvidia最頂尖的AI晶片及製造先進晶片的設備；後續幾輪則將高頻寬記憶體及更多由荷蘭半導體設備龍頭ASML生產的晶片印刷機納入管制名單。美國今年放寬了部分晶片管制，允許H200銷售，北京當局隨後也對此設限；國會則在設備端採取行動，4月在外交委員會過關的法案將禁止ASML在中國銷售其最先進的剩餘機型，並要求對已安裝機器的每次服務都須申請許可。

因此——既然中國仍無法自製製造晶片的機器——他們便囤積了足以支撐三年的關鍵設備，為一家公司主導的AI自主化國產行動爭取時間。

週一《金融時報》報導，華為在中國自製這類機器的行動中擔任協調角色，橫跨整個供應鏈進行投資，並推動國產設備進入中國最大晶片製造商中芯國際（SMIC）的晶圓廠。該行動的核心，是由上海新創公司宇量生所打造的掃描機，與前述法案鎖定的機型屬於同一等級。該設備正於中芯及華為自家產線進行測試，一名消息人士向該報表示，今年底產量將達到12台。

中國兩大記憶體晶片製造商長鑫存儲（CXMT）與長江存儲（YMTC）已購買足夠的ASML設備，足以支撐未來三年的擴產計畫。同時，宇量生作為潛在的國產替代方案，其晶圓曝光採用的是德國蔡司（Zeiss）生產的投影鏡片，而蔡司表示其微影光學元件僅供應單一客戶：ASML。

中國記憶體廠已備妥三年的荷蘭設備庫存，而國產替代方案則運作於德國玻璃光學元件之上。

【什麼是光刻掃描機？】
晶片是將圖案以光線印製於矽晶圓上的產物。執行這項印刷作業的機器即為光刻掃描機。對於中國AI建設至關重要的晶片而言，相關設備為浸沒式深紫外線掃描機（DUV），其原理是讓光線通過一層薄水膜以印製更精細的線路。全球幾乎所有此類設備都由ASML製造，日本的Nikon是唯一其他主要供應商。

ASML較新的極紫外光（EUV）機型從未銷往中國。浸沒式DUV設備則已售出數百台。ASML中國區總裁於2023年底表示，近1,400台ASML機器已安裝於中國境內，此後數字持續攀升。中國去年購買了496億美元的晶片設備，占全球總額的42%，其中大部分是在新一輪出口管制生效前搶購。

中芯國際運用這些DUV掃描機搭配多重曝光技術（multi-patterning），透過在同一層上多次曝光的方式，在沒有EUV的條件下生產7奈米等級晶片。這正是華為昇騰（Ascend）加速器的製造方式，包括DeepSeek為其內蒙古資料中心訂購的16萬顆昇騰950DT，這部分內容先前本專欄已涵蓋。

然而，每一顆昇騰晶片的源頭仍指向一台荷蘭掃描機。華為正在專案管理的這台機器，正是為了取代它而生。

【華為作為專案統籌者】
宇量生成立於2022年，自深圳設備製造商新凱來（SiCarrier）獨立而出。據《金融時報》先前報導，新凱來與華為有密切的技術及業務關係。華為否認有任何從屬關係。宇量生的浸沒式掃描機自2025年9月起在中芯進行測試，目標是在單次曝光下達到28奈米，並以多重曝光技術實現7奈米。目前該設備正用於較簡單的晶片，同時工程團隊持續優化。AI加速器是其明確的應用目標。

伯恩斯坦（Bernstein）分析師林慶元向《金融時報》表示：「華為在中國的DUV推進中扮演專案管理角色。」他補充說，原型機若缺乏使其在工業規模下穩定運作所需的數千家供應商、晶圓廠與客戶，價值有限。華為正試圖將這樣的生態系統組建起來。

華為旗下創投子公司哈博（Habo）與另一華為支持的基金——深圳市原智興火——已投資多家供應商，這些供應商正致力於中國仍無法達標生產的兩大關鍵零組件：投影鏡片與光源。中國歷史悠久的國有微影設備廠上海微電子裝備（SMEE）正以多項原型支援宇量生，部分原型採用外國零組件打造，另一些則用於測試國產替代方案。

這家新創公司也置身於規模更大的國家級行動之中。7月下旬，The Information報導，一家上海公司已開始量產國產浸沒式DUV設備，導致其股價盤中重挫逾8%。路透社指出該公司為上海艾森納電子科技集團（Aishengna）。艾森納成立於2023年8月，註冊資本70億人民幣，約合10億美元，背後投資方包括上海電氣控股及上海國際信託子公司，並已吸納宇量生與SMEE的團隊。企業及招募資料顯示，艾森納與宇量生共享上海同一地址。路透社12月亦報導中國已製造出EUV原型機，但量產仍需數年時間。

【德國玻璃光學元件】
一台DUV掃描機包含數萬個零組件，散布於約十數個主要元件群組中。據《金融時報》消息來源指出，中國供應商在兩個最困難的領域仍處於落後：投影鏡片與光源。

投影鏡片：宇量生的投影鏡片來自蔡司——蔡司告訴《金融時報》，其微影光學元件僅供應ASML，而ASML持有該部門24.9%股權，是2017年以10億歐元購入，ASML的公開文件將蔡司SMT描述為其唯一的微影光學元件供應商。

華為現正扶持一家潛在的替代方案。福建至奇光子（Fujian Zhiqi Photonics）於2022年自光學材料製造商中科海訊（Castech）獨立而出。原智興火於2023年以1億人民幣取得該公司37%股權，意味著估值約2.7億人民幣，相當於約4,000萬美元。源自中科院研究所的中科海訊已揭露ASML與華為均為其客戶。

光源：日本的Gigaphoton與ASML子公司Cymer主導該市場。北京鐳射（RSLaser）同樣獲得哈博投資，已為SMEE較舊的機型供應光源，並正在為28奈米工具開發新款光源。林慶元向《金融時報》表示：製造光源並不困難，困難的是打造能在高功率下穩定運作的光源。

【晶圓廠以荷蘭庫存表態】
雖然中芯國際已採購宇量生的機器並進行測試，但其量產線仍使用ASML設備。同時，長鑫存儲與長江存儲已備妥足夠的ASML DUV設備，足以支撐三年擴產需求。

ASML財務長Roger Dassen於7月表示，中國將維持約占2026年銷售20%的比重，較2025年的33%下滑，但基礎規模更大。ASML同日將全年財測上調至430億至450億歐元。其服務與升級業務「安裝基礎管理」（Installed Base Management）單季便創造27.6億歐元營收。

林慶元的研判是，中國的DUV技術已有長足進步，但仍缺乏本土晶圓廠的全面支持，這與ASML自身的崛起有賴多年與台積電（TSMC）並行耕耘頗為類似。庫存為中芯、長鑫及長江爭取到三年的擴產空間，無需在量產線上使用未經驗證的國產掃描機。但這同時也延後了林慶元所稱原型機所需的產線學習時間，延後幅度同樣是三年。

【MATCH法案】
4月2日，一個跨黨派國會議員小組提出《硬體技術管制多邊協調法案》（Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act, MATCH Act），法案編號H.R. 8170，旨在填補美國對中國晶片製造設備出口管制政策的剩餘漏洞，並要求荷蘭（ASML總部所在地）與日本（Nikon總部所在地）在期限內配合。原本法案版本涵蓋範圍更廣。4月下旬提出的替代版本刪除了數項管制措施，但據路透社報導，仍保留了對ASML浸沒式DUV設備銷往中國的全國性禁令，亦保留對長鑫、長江及中芯已禁用美國設備之設施的外國設備銷售限制。

MATCH法案也將要求對受管制設施內的設備維修——包括校驗、備品零件、軟體更新及現場支援——申請許可，但修訂版本已刪除原先一律駁回申請的政策。法案原本給予盟國供應國150天時間配合美國管制；路透社報導替代版本仍保留盟國談判期限，期滿後美國將逕行實施單邊管制。外交委員會於4月22日以36票對8票通過替代版本。參議院版本S.4281目前仍在銀行委員會。兩院均尚未進行院會表決。

浸沒式設備約每六個月需要一次專業維修，通常由ASML工程師親赴中國現場執行。三年的庫存足以因應銷售禁令，但無法因應維修限制——後者將使受管制設施內每半年的維修作業都須取得美國商務部許可。

林慶元向《金融時報》提出的最終觀點是，美國的管制措施實際上可能加速中國的進度，迫使本土晶圓廠與本土供應商合作。華為能夠統籌供應商、資助仍缺的零組件，並將原型機送進中芯進行驗證。但華為難以做到的，是讓晶圓廠在荷蘭庫存仍充裕之際放棄一款經實證的ASML掃描機。唯一能促成此局面的是國會，而其法案尚未進入院會表決。

中國模型背後的硬體瓶頸依然存在。DeepSeek的晶片訂單撞上華為的記憶體短缺；華為的昇騰晶片流經中芯的ASML掃描機；原本要取代這些設備的國產掃描機，仍仰賴於中國二級市場取得的蔡司鏡片。而位居艾森納交貨名單之首的記憶體廠長鑫存儲，才剛採購足以再支撐三年的ASML設備。三年，正是華為讓國產掃描機真正上軌的時間窗口。