⚡ 科技巨頭

#ASML #應用材料 #半導體設備 09/25 11:33

ASML vs. 應用材料：誰才是AI晶片設備股的更佳選擇？

在半導體資本支出的浪潮中，荷蘭曝光設備龍頭ASML（NASDAQ:ASML）與美國半導體設備大廠應用材料（NASDAQ:AMAT）雖然販售不同機台，卻共同爭奪投...

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Key Takeaways

ASML本益比約31倍，應用材料約27倍，雖然溢價僅約4倍，但ASML掌握EUV曝光設備的技術瓶頸，具備更強的定價能力與難以取代的護城河。
ASML第二季營收93億歐元，毛利率54%，並預期2026年營收達430至450億歐元；應用材料則創下單季91.2億美元新高紀錄，營收年增25%，GAAP毛利率提升至50.3%。
應用材料產品線較廣泛，降低對單一架構依賴，但面臨中國出口管制風險與更激烈的競爭；機構持有數據顯示ASML機構投資人數增加，應用材料則略有下滑。

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#台積電 #艾斯摩爾 #EUV光罩 09/24 23:34

台積電與艾斯摩爾聯手推動12吋EUV光罩革命 AI晶片製造版圖重塑

台積電（NYSE:TSM）與艾斯摩爾（NASDAQ:ASML）日前宣布一項重大的產業合作計畫，將半導體產業從現行用於High NA EUV系統的6吋光罩，全面轉...

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Key Takeaways

台積電與艾斯摩爾於9月8日宣布共同推動半導體產業轉向12吋EUV光罩格式，目標2031年建立試產線、2033年實現12吋High-NA量產。
從財務體質來看，台積電憑藉更強的成長動能、獲利能力及AI驅動的需求，在短期營運效率上優於艾斯摩爾。
12吋光罩轉換需整個全球供應鏈從零開始改造，帶來資金與執行風險，艾斯摩爾承擔較多短期生態系轉型壓力。

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#ASML #台積電 #EUV光罩 09/24 11:15

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電（TSMC）近日共同宣布一項重大合作倡議，將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩（photomask）規格，全面轉...

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Key Takeaways

ASML與台積電宣布共同主導半導體產業從現行6吋光罩轉向12吋EUV光罩的產業級轉型，預期可顯著提升晶圓廠生產效率並降低製造成本
台積電計畫自2030年起，在先進製程高量產線導入ASML的High NA EUV技術，並預期隨AI應用驅動電晶體架構複雜化，使用High NA EUV的層數將持續增加
ASML執行長Christophe Fouquet及台積電董事長魏哲家均強調，產業鏈上下游協同合作是推動先進製程普及與加速創新的關鍵

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#ASML #EUV微影機台 #半導體 09/23 11:32

AI晶片競賽背後的真正霸主：為何ASML才是人工智慧浪潮中最關鍵的半導體股？

輝達（NVIDIA）與超微（AMD）無疑是當前人工智慧（AI）晶片設計領域的兩大領導者，兩家公司擁有令人印象深刻的客戶基礎，涵蓋主要超大規模雲端業者、AI企業及...

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Key Takeaways

ASML為何是AI生態系中最重要的公司：其獨家生產的EUV（極紫外光）微影設備是製造7奈米以下先進晶片不可或缺的工具，在全球市場擁有近乎壟斷的地位
受惠於AI需求爆發，ASML今年股價已飆漲60%，但本益比僅約28倍，較那斯達克100指數的24.2倍前瞻本益比差距不大，且分析師持續上修其長線EPS（每股盈餘）預估
PwC預估AI基礎建設支出將從2026年的8,000億美元一路攀升至2050年的1.8兆美元，ASML挾其技術壟斷優勢，將是這波兆元商機的最大受惠者之一

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#ASML #Intel #半導體 09/23 08:32

ASML vs Intel：2026年AI浪潮下，半導體設備霸主與晶片製造老將的終極對決

隨著人工智慧在2026年重塑晶片產業，半導體公司正重新定義自身的角色。在艾司摩爾(ASML)與英特爾(Intel)之間做出投資選擇，需要深入理解這個產業中「不可...

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Key Takeaways

ASML為全球唯一極紫外光(EUV)微影設備供應商，2025年營收近375億美元，淨利率高達29.4%，自由現金流達122億美元，財務體質極為穩健
Intel雖獲美國政府89億美元注資取得約10%股權，但2025年仍出現淨虧損，代工業務單季虧損21億美元，轉型之路仍充滿挑戰
分析師最終選擇ASML，認為其不論哪家晶片廠勝出都能從中獲利；而Intel則適合願意承受波動、看好代工業務兌現的投資人小部位布局

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#台積電 #TSMC #半導體 09/21 21:45

台積電股價飆漲2.5%突破445美元法人喊進時機已到？

台灣積體電路製造股份有限公司（NYSE:TSM）週一股價強勢走高，單日漲幅達2.5%。盤中最高價來到445.72美元，終場收在445.33美元。中盤交易量約98...

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Key Takeaways

台積電週一股價強勢上漲2.5%，收於445.33美元，盤中最高觸及445.72美元，多家投行調升目標價至600美元
高雄先進封測園區正式動土、台積電攜手ASML及輝達等大廠布局下一代High-NA EUV設備，正面消息持續發酵
分析師平均目標價達523.22美元，整體評等維持「買進」，內部人與機構法人近期同步加碼

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#半導體 #AI晶片 #HBM 09/21 15:33

半導體業週回顧：AI晶片需求引爆供應鏈緊張 Google TPU一年回本帶動ASIC商機

本週半導體產業重大新聞彙整如下：【ABF載板廠欣興電子遭搜索疑涉產地標示調查】 ABF載板大廠欣興電子傳出遭執法單位搜索，疑與產地標示相關調查案有關。市場...

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Key Takeaways

AI需求浪潮持續推升晶片供需吃緊，三星與SK海力士加速布局中國NAND升級，並競逐HBM之外的新戰場，中國則在無EUV情況下推進3奈米製程
Google TPU傳出一年即回收投資成本，激勵聯發科、博通等ASIC供應鏈營收展望看俏，高通HBC布局也將三星、SK海力士捲入新一輪競賽
政策與地緣風險交織：欣興電子遭搜索調查產地標示，IBM旗下公司獲10億美元晶片法案補助擴大量子晶圓製造，ASML則攜手英特爾、台積電、三星推動12吋光罩發展

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#ASML #台積電 #EUV微影 09/20 23:00

ASML攜手台積電、英特爾、三星等晶片巨頭擴大光罩尺寸布局更大AI晶片

根據Reuters於2026年9月8日的報導，ASML Holding N.V.（NASDAQ:ASML）計畫與其主要客戶合作，調整旗下下一代「High NA」...

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Key Takeaways

ASML計畫與台積電、Nvidia、英特爾、三星及SK海力士合作，調整下一代High NA EUV光罩尺寸以列印更大的資料中心晶片，預計2031年建立試產線、2033年達成量產。
ASML預估此項調整可將系統生產力提升約40%，新光罩技術將有助於突破現行High NA工具晶片尺寸限制，並擴大AI晶片製造效率。
對沖基金第二季對ASML持倉增至140檔、總值達217.7億美元；對台積電持倉也增至249檔，顯示機構資金持續加碼半導體設備與晶圓代工龍頭。

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#英特爾 #High-NA EUV #半導體製程 09/12 18:00

英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量超車所有競爭對手總和

英特爾近日宣布，其晶圓廠已處理超過100萬片採用高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影技術的晶圓，此里程碑超越了所有其他半導體製造商在相同技術上的累...

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Key Takeaways

英特爾宣布已處理超過100萬片High-NA（高數值孔徑）EUV晶圓，累計產量超越所有競爭對手的總和
此里程碑將加速其14A節點（1.4奈米級）於2026至2027年的風險量產進程，並優化缺陷模型與製程學習曲線
相較之下，台積電採取較保守策略，預期High-NA EUV要到2020年代後半才會進入量產；三星則聚焦於閘極全環（GAA）電晶體架構

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#英特爾 #ASML #High-NA EUV 09/12 07:32

英特爾High-NA EUV晶圓產量突破百萬片佔全球總量約74%遙遙領先對手

英特爾（Intel）與艾司摩爾（ASML）在近日於加州蒙特雷舉行的SPIE光罩技術與EUV微影研討會上聯合宣布，英特爾已在ASML的High-NA EUV掃描機...

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Key Takeaways

英特爾與ASML共同宣布，英特爾已在High-NA EUV掃描機上處理超過100萬片300mm晶圓，約佔全球High-NA晶圓曝光總量的74%
英特爾股價今年以來飆漲近155%，在輝達與美國政府注資後，晶圓代工業務再度成為市場焦點
台積電預計2030年才開始High-NA量產，三星與SK海力士態度亦保守，英特爾已成為目前唯一將High-NA技術導入量產出貨的晶片商

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#AI人工智慧 #半導體 #GPU 09/12 13:15

AI硬體週報：Qwen 3.8效能實測、半導體供應鏈吃緊、GPT-6 Astra引爆爭議

本週Tom's Hardware Premium精選內容摘要如下：首先登場的是由駐站GPU專家暨推論領域權威Jeff Kampman所進行的Qwen 3.8...

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Key Takeaways

Tom's Hardware團隊在RTX 5090、Mac Mini、DGX Spark及Strix Halo等多款裝置上深度測試阿里巴巴Qwen 3.8 27B模型，發現設定配置對推論效能的影響不亞於每秒生成Token數的絕對值
日本味之素（Ajinomoto）生產的ABF基板在AI加速器供應鏈中扮演關鍵角色，受AI資料中心建設需求推升，價格已飆漲約30%；TSMC、三星與Intel則聯手支持ASML推動6×12吋High-NA EUV光罩轉換
OpenAI發表GPT-6 Astra模型並宣稱已解決千禧年數學難題之一的Navier-Stokes問題，但隨即遭研究人員指控抄襲且發出職業威脅，引發學術界高度爭議

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#SEMICON Taiwan #華為 #蘋果 09/10 22:34

SEMICON Taiwan盛大登場供應鏈暗冠軍齊亮相華為與蘋果摺疊機大戰一觸即發

各位讀者大家好，我是鄭婷芳，從台北為您主持本週的#techAsia專欄。我剛結束與同事李立瑜（Lauly Li）連續數日報導SEMICON Taiwan（國際半...

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Key Takeaways

SEMICON Taiwan展會規模空前，德國Trumpf、Zeiss等設備與光學大廠積極擴大在台布局，卡本特、康寧等材料供應商也看好半導體商機
華為發表睽違六年的Kirin 9050 Pro自研手機晶片並搭載於三摺疊手機Mate XT2，蘋果則推出首款摺疊機iPhone Duo定價1,999美元，雙方正面交鋒
英特爾、台積電、三星三大晶片巨頭同日力挺ASML新一代高數值孔徑EUV系統，該設備售價約4億美元，為全球最先進的晶片製造工具

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#ASML #High-NA EUV #半導體微影 09/10 00:37

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術目標2033年量產、生產力提升40%

ASML正與客戶合作，研發適用於下一代High-NA（高數值孔徑）EUV微影設備的更大光罩格式。這項變革有望使該系統在打造最大型的AI與資料中心晶片時更加實用。...

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Key Takeaways

ASML正與客戶合作開發適用於下一代High-NA EUV微影設備的12吋光罩格式，預計2031年展示試產線、2033年進入量產。
新光罩將使High-NA EUV系統能處理與現行EUV設備同等尺寸的大型晶片，預估生產力可提升約40%，有助AI與資料中心晶片製造。
英特爾已將High-NA EUV用於筆電晶片，但台積電、三星尚未在高階邏輯晶片量產中大規模導入；SK海力士與三星則預計2028年用於DRAM量產。

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#英特爾 #ASML #High-NA EUV 09/09 21:30

英特爾晶圓代工攜手ASML達成百萬晶圓里程碑 High-NA EUV技術進入量產新紀元

在本週於蒙特雷舉行的SPIE光罩與EUV光刻技術會議（SPIE Photomask Technology + EUV Lithography conferenc...

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Key Takeaways

英特爾晶圓代工與ASML於SPIE光罩與EUV光刻技術會議中宣布，雙方在High-NA EUV平台上已累計處理超過100萬片300mm晶圓，涵蓋設備安裝、研發校準、PDK開發及早期限量生產階段
英特爾確認High-NA EUV已部署於Core Ultra Series 3處理器（Panther Lake，採用Intel 18A製程）的關鍵層，採取選擇性導入策略，僅在最關鍵的微影層使用0.55 NA設備，以攤提高額營運成本
相較於台積電、三星採取保守態度、將0.33 NA多重曝光延伸至初期2奈米世代，英特爾率先於2024年安裝首部商用EXE:5000，憑藉Panther Lake的優異良率，在製程執行力上取得領先地位

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#台積電 #艾斯摩爾 #EUV微影 09/09 16:30

台積電將採用艾斯摩爾下一代 High NA EUV 機台 2030年起量產迎戰AI需求

台灣積體電路製造公司（TSMC）週二正式宣布，計劃自2030年起，於高產量製造階段導入荷蘭半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）的下一代先進 High NA 極紫外...

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Key Takeaways

台積電宣布將自2030年起，於高產量製造中導入荷蘭半導體設備商艾斯摩爾（ASML）的下一代 High NA 極紫外光（EUV）微影機台
該機台每台造價最高可達4億美元，主要用於在半導體晶圓上蝕刻精密電路圖案
隨著製程節點持續推進，台積電預期 High NA EUV 機台的使用比例將逐步提升，以滿足AI應用對複雜電晶體架構的迫切需求

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#ASML #台積電 #High-NA EUV 09/09 15:33

台積電導入High-NA EUV計畫曝光 ASML迎催化劑但投資人面臨兩條不同時間軸

荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML Holding N.V.，NASDAQ:ASML）與晶圓代工龍頭台積電（Taiwan Semiconductor Manu...

7 IMPT

Key Takeaways

台積電宣布將於2030年開始將ASML的High-NA EUV技術導入高產量先進製程，並於2031年設置更大光罩試產線、2033年導入對應微影系統進入先進生產。
對設備商ASML而言，客戶明確的採用時程強化長期需求能見度，但目前並無訂單金額、出貨時程或營收貢獻，投資人應視為市場潛在機會而非已完成交易。
對台積電而言，新設備須證明經濟效益能支撐客戶需求與資本報酬；而兩家公司短線放空比率均偏低，機構持有家數於2026年第二季均較前一季增加。

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#ASML #台積電 #EUV曝光機 09/09 02:15

ASML結盟台積電、三星、英特爾升級High-NA EUV機台搶攻AI晶片商機

全球半導體曝光設備龍頭艾司摩爾（ASML）正聯手台積電等晶片製造商，組成策略聯盟，共同升級其最先進的High-NA EUV曝光機，目標是加速AI晶片的生產。這台...

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Key Takeaways

ASML宣布與台積電、三星、英特爾等晶片大廠組成聯盟，共同升級造價高達4億歐元的High-NA EUV曝光機，目標是讓該設備在五年內能處理更大尺寸的光罩，加快晶片生產速度
現有High-NA機台因最初設計時的妥協，面臨重大升級需求，透過升級將顯著提升運作效率，加速AI晶片的量產進程
ASML是全球唯一成功將極紫外光（EUV）應用於商業化晶片曝光的廠商，蘋果、輝達、英特爾等現代晶片內含數百億個電晶體，線距僅有數十奈米，凸顯EUV技術的關鍵地位

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#ASML #台積電 #EUV 09/09 02:15

ASML攜手台積電升級High-NA EUV機台加速AI晶片製程演進

晶片設備製造商艾司摩爾（ASML）正積極籌組晶片製造商聯盟，計劃與晶片大廠台積電（TSMC）攜手合作，全面升級其最先進的極紫外光（High-NA EUV）曝光機...

7 IMPT

Key Takeaways

ASML正籌組晶片製造商聯盟，與台積電合作升級最先進的High-NA EUV機台，目標是加速AI晶片的開發與量產
GE Appliances與工會IUE-CWA宣布在肯塔基州路易斯維爾廠區投入10億美元，擴大高效能烘衣機產能，打造全美最大家電製造基地
ECIA八月及第三季產業脈動指數顯示，整體元件指數自六月高點154.1回落至136.7，產業景氣動能持續降溫

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#台積電 #TSM #美股 09/08 22:15

台積電ADR週二飆漲2.4%！高NA EUV採用、73%晶圓代工市占率助攻多頭

台灣積體電路製造公司（Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd.，NYSE:TSM）週二股價強勢上漲2.4%...

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Key Takeaways

台積電（NYSE:TSM）週二股價勁揚2.4%，盤中最高觸及444.29美元，主因市場看好其導入ASML次世代高數值孔徑EUV曝光機的技術藍圖
分析師普遍看多：巴克萊將目標價調升至650美元、Susquehanna升至600美元，MarketBeat統計3位給予強力買進、13位給予買進，共識目標價達523.22美元
近期傳出多樁內部人加碼，包括副總Shyue-Shyh Lin與資深副總Shu-Hua Fang各購入2,000股，加上對沖基金如Tiger Global大幅加碼49.4%，法人信心穩固

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#台積電 #High-NA EUV #半導體製程 09/08 18:45

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

多年來，台積電一直盡量避免公開評論其採用數值孔徑0.55的EUV曝光技術（即High-NA EUV）的相關計畫，因為該公司的研發團隊深知如何在不使用造價高達4億...

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Key Takeaways

台積電宣布將於2030年開始將High-NA EUV曝光設備投入量產，首批採用傳統6×6吋光罩
2031年將建立6×12吋光罩的試產線，目標2033年將6×12吋High-NA曝光系統導入先進節點量產
根據台積電製程藍圖，A10或A11（1/1.1奈米等級）製程最有可能成為首批採用High-NA EUV掃描機的關鍵節點

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⚡ 科技巨頭

ASML vs. 應用材料：誰才是AI晶片設備股的更佳選擇？

Key Takeaways

台積電與艾斯摩爾聯手推動12吋EUV光罩革命 AI晶片製造版圖重塑

Key Takeaways

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

Key Takeaways

AI晶片競賽背後的真正霸主：為何ASML才是人工智慧浪潮中最關鍵的半導體股？

Key Takeaways

ASML vs Intel：2026年AI浪潮下，半導體設備霸主與晶片製造老將的終極對決

Key Takeaways

台積電股價飆漲2.5%突破445美元 法人喊進時機已到？

Key Takeaways

半導體業週回顧：AI晶片需求引爆供應鏈緊張 Google TPU一年回本帶動ASIC商機

Key Takeaways

ASML攜手台積電、英特爾、三星等晶片巨頭 擴大光罩尺寸布局更大AI晶片

Key Takeaways

英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量 超車所有競爭對手總和

Key Takeaways

英特爾High-NA EUV晶圓產量突破百萬片 佔全球總量約74%遙遙領先對手

Key Takeaways

AI硬體週報：Qwen 3.8效能實測、半導體供應鏈吃緊、GPT-6 Astra引爆爭議

Key Takeaways

SEMICON Taiwan盛大登場供應鏈暗冠軍齊亮相 華為與蘋果摺疊機大戰一觸即發

Key Takeaways

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術 目標2033年量產、生產力提升40%

Key Takeaways

英特爾晶圓代工攜手ASML達成百萬晶圓里程碑 High-NA EUV技術進入量產新紀元

Key Takeaways

台積電將採用艾斯摩爾下一代 High NA EUV 機台 2030年起量產迎戰AI需求

Key Takeaways

台積電導入High-NA EUV計畫曝光 ASML迎催化劑但投資人面臨兩條不同時間軸

Key Takeaways

ASML結盟台積電、三星、英特爾 升級High-NA EUV機台搶攻AI晶片商機

Key Takeaways

ASML攜手台積電升級High-NA EUV機台 加速AI晶片製程演進

Key Takeaways

台積電ADR週二飆漲2.4%！高NA EUV採用、73%晶圓代工市占率助攻多頭

Key Takeaways

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

Key Takeaways

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型目標2030年量產

台積電股價飆漲2.5%突破445美元法人喊進時機已到？

ASML攜手台積電、英特爾、三星等晶片巨頭擴大光罩尺寸布局更大AI晶片

英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量超車所有競爭對手總和

英特爾High-NA EUV晶圓產量突破百萬片佔全球總量約74%遙遙領先對手

SEMICON Taiwan盛大登場供應鏈暗冠軍齊亮相華為與蘋果摺疊機大戰一觸即發

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術目標2033年量產、生產力提升40%

ASML結盟台積電、三星、英特爾升級High-NA EUV機台搶攻AI晶片商機

ASML攜手台積電升級High-NA EUV機台加速AI晶片製程演進