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全球財經 · 09/24 11:15 ⭐ 評分 7/10

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電（TSMC）近日共同宣布一項重大合作倡議，將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩（photomask）規格，全面轉向更大尺寸的12吋極紫外光（EUV）微影光罩世代。根據雙方說明，High NA EUV技術初期將採用現有的6吋光罩導入量產，後續隨著產業逐步過渡至12吋光罩...

全球財經 · 09/09 16:30 ⭐ 評分 7/10

台積電將採用艾斯摩爾下一代 High NA EUV 機台 2030年起量產迎戰AI需求

台灣積體電路製造公司（TSMC）週二正式宣布，計劃自2030年起，於高產量製造階段導入荷蘭半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）的下一代先進 High NA 極紫外光（EUV）微影機台，以因應人工智慧（AI）相關產業持續攀升的強勁需求。據台積電說明，艾斯摩爾的 High NA EUV 微影機台是目前業界最先進的半導體製...

全球財經 · 09/08 17:30 ⭐ 評分 7/10

高通攜AWS開發客製AI晶片 ASML與台積電推動12吋光罩轉型英特爾股價飆漲9.5%

美股半導體類股在午後交易中集體走強，主因高通宣布與亞馬遜雲端服務（AWS）達成多年期產品合作，共同開發客製化AI資料中心基礎設施，同時ASML、台積電與英特爾在下一代晶片製造領域達成關鍵里程碑，激勵市場投資人對次2奈米晶片設計及下一代AI基礎設施商業化進展的信心。【高通攜手AWS 強化客製雲端AI晶片布局】根據...

全球財經 · 09/08 07:15 ⭐ 評分 7/10

ASML攜手大客戶推進次世代光罩技術目標2033年量產升級版High NA EUV設備

荷蘭半導體微影設備龍頭ASML近日宣布，將與其主要客戶攜手合作，共同生產該公司最先進的工具機，目標是打造用於開發輝達（NVIDIA）等業者所設計的大型資料中心晶片所需的關鍵設備。 ASML所生產的是所謂的「微影設備」（lithography tools），透過將光線穿透含有晶片圖案的「光罩」（mask），將電路圖案曝...

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#ASML #台積電 #EUV光罩 09/24 11:15

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電（TSMC）近日共同宣布一項重大合作倡議，將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩（photomask）規格，全面轉向更大尺寸的12吋極...

財智情報 AI 評分 7 分

AI 重點精華 Takeaways

ASML與台積電宣布共同主導半導體產業從現行6吋光罩轉向12吋EUV光罩的產業級轉型，預期可顯著提升晶圓廠生產效率並降低製造成本
台積電計畫自2030年起，在先進製程高量產線導入ASML的High NA EUV技術，並預期隨AI應用驅動電晶體架構複雜化，使用High NA EUV的層數將持續增加
ASML執行長Christophe Fouquet及台積電董事長魏哲家均強調，產業鏈上下游協同合作是推動先進製程普及與加速創新的關鍵

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