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全球財經 · 09/24 11:15 ⭐ 評分 7/10

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電(TSMC)近日共同宣布一項重大合作倡議,將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩(photomask)規格,全面轉向更大尺寸的12吋極紫外光(EUV)微影光罩世代。 根據雙方說明,High NA EUV技術初期將採用現有的6吋光罩導入量產,後續隨著產業逐步過渡至12吋光罩...

📊 市場多空情緒指數 09/24 14:54
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ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電(TSMC)近日共同宣布一項重大合作倡議,將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩(photomask)規格,全面轉向更大尺寸的12吋極...

財智情報 AI 評分 7 分
ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

AI 重點精華 Takeaways

  • ASML與台積電宣布共同主導半導體產業從現行6吋光罩轉向12吋EUV光罩的產業級轉型,預期可顯著提升晶圓廠生產效率並降低製造成本
  • 台積電計畫自2030年起,在先進製程高量產線導入ASML的High NA EUV技術,並預期隨AI應用驅動電晶體架構複雜化,使用High NA EUV的層數將持續增加
  • ASML執行長Christophe Fouquet及台積電董事長魏哲家均強調,產業鏈上下游協同合作是推動先進製程普及與加速創新的關鍵