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全球財經 · 10/20 15:37 ⭐ 評分 6/10

蘋果2028晶片大計曝光!傳A22 Pro將率先採用台積電1.4奈米製程,單片晶圓飆破4.5萬美元

蘋果已開始為2028年的晶片進行規劃,而帳單數字相當驚人。摩根大通(J.P. Morgan)最新報告指出,台積電將提前於2028年上半年將其1.4奈米製程推進至量產階段,蘋果預計將成為首個客戶,採用該製程打造A22 Pro晶片,用於其頂規iPhone機型。雖然上述消息均未經官方證實,但相關數據仍值得深入探究。 早些時...

全球財經 · 10/18 10:30 ⭐ 評分 7/10

蘋果最快兩年內推出首款1.4奈米晶片 台積電加速2028上半年量產 搶先卡位AI供應戰局

台積電最新的光刻技術通常由蘋果在其A系列晶片中率先採用,以獲得產業競爭優勢,但這次該公司可能並非出於自願,而是基於市場壓力被迫加速轉進新製程。隨著AI浪潮推升先進製程晶片需求,分析師認為台積電將加速於2028年上半年啟動1.4奈米節點的量產,幾乎可以確定蘋果將在隔年推出採用相同技術的A22 Pro處理器。 AI熱潮給...

全球財經 · 09/24 11:15 ⭐ 評分 7/10

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電(TSMC)近日共同宣布一項重大合作倡議,將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩(photomask)規格,全面轉向更大尺寸的12吋極紫外光(EUV)微影光罩世代。 根據雙方說明,High NA EUV技術初期將採用現有的6吋光罩導入量產,後續隨著產業逐步過渡至12吋光罩...

全球財經 · 09/12 18:00 ⭐ 評分 7/10

英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量 超車所有競爭對手總和

英特爾近日宣布,其晶圓廠已處理超過100萬片採用高數值孔徑(High-NA)極紫外光(EUV)微影技術的晶圓,此里程碑超越了所有其他半導體製造商在相同技術上的累計產量總和。這項由TechRadar報導的進展,凸顯英特爾在先進製程落後多年後,積極奪回製程領導地位的決心與行動。 High-NA EUV微影技術代表電晶體尺...

全球財經 · 09/08 18:45 ⭐ 評分 7/10

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

多年來,台積電一直盡量避免公開評論其採用數值孔徑0.55的EUV曝光技術(即High-NA EUV)的相關計畫,因為該公司的研發團隊深知如何在不使用造價高達4億美元的掃描機的情況下,持續推進製程技術的演進。然而,台積電終究無法永遠依賴Low-NA EUV系統,本週該公司終於宣布將自2030年起開始採用High-NA E...

📊 市場多空情緒指數 10/24 08:42
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基於站內今日新聞深度情緒量化模型
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總體趨勢:穩健偏多 完整報告 →

蘋果2028晶片大計曝光!傳A22 Pro將率先採用台積電1.4奈米製程,單片晶圓飆破4.5萬美元

蘋果已開始為2028年的晶片進行規劃,而帳單數字相當驚人。摩根大通(J.P. Morgan)最新報告指出,台積電將提前於2028年上半年將其1.4奈米製程推進至量產階段,蘋果預計將...

財智情報 AI 評分 6 分
蘋果2028晶片大計曝光!傳A22 Pro將率先採用台積電1.4奈米製程,單片晶圓飆破4.5萬美元

AI 重點精華 Takeaways

  • 摩根大通最新報告指出,台積電將提前在2028年上半年量產1.4奈米製程,蘋果有望成為首批客戶,屆時將以A22 Pro應用於高階iPhone機型,業界甚至傳出蘋果考慮將英特爾列為第二供應商。
  • 1.4奈米製造成本驚人,單片晶圓估計達4.5萬美元,較2奈米的3萬美元高出約50%,可能導致旗艦機價格持續攀升,而iPhone Duo起售價已達1,999美元,2028年再度調漲並不令人意外。
  • 效能提升方面,台積電宣稱1.4奈米相較2奈米可在相同功耗下提升15%速度、降低30%功耗、塞入多20%電晶體;但高昂成本恐使高通、聯發科等對手延後導入,恐進一步擴大iPhone與Android旗艦機的差距。

蘋果最快兩年內推出首款1.4奈米晶片 台積電加速2028上半年量產 搶先卡位AI供應戰局

台積電最新的光刻技術通常由蘋果在其A系列晶片中率先採用,以獲得產業競爭優勢,但這次該公司可能並非出於自願,而是基於市場壓力被迫加速轉進新製程。隨著AI浪潮推升先進製程晶片需求,分析...

財智情報 AI 評分 7 分
蘋果最快兩年內推出首款1.4奈米晶片 台積電加速2028上半年量產 搶先卡位AI供應戰局

AI 重點精華 Takeaways

  • 台積電將1.4奈米(A14 Angstrom)節點量產時程提前至2028年上半年,試驗產線預計2027年第三季啟動,並將動用四座工廠因應AI晶片訂單需求
  • 蘋果有望於2029年推出搭載台積電1.4奈米製程的A22 Pro處理器,預估每片晶圓成本高達4.5萬美元,可能迫使高通與聯發科留在2奈米節點
  • AI熱潮對蘋果而言是雙刃劍——既是率先採用最先進製程的契機,也因AI需求排擠供給而被迫加速製程轉換,面臨供應鏈競爭壓力

ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

全球半導體微影設備龍頭ASML與晶圓代工霸主台積電(TSMC)近日共同宣布一項重大合作倡議,將攜手主導半導體產業從現行6吋光罩(photomask)規格,全面轉向更大尺寸的12吋極...

財智情報 AI 評分 7 分
ASML與台積電攜手推進12吋EUV光罩世代轉型 目標2030年量產

AI 重點精華 Takeaways

  • ASML與台積電宣布共同主導半導體產業從現行6吋光罩轉向12吋EUV光罩的產業級轉型,預期可顯著提升晶圓廠生產效率並降低製造成本
  • 台積電計畫自2030年起,在先進製程高量產線導入ASML的High NA EUV技術,並預期隨AI應用驅動電晶體架構複雜化,使用High NA EUV的層數將持續增加
  • ASML執行長Christophe Fouquet及台積電董事長魏哲家均強調,產業鏈上下游協同合作是推動先進製程普及與加速創新的關鍵

英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量 超車所有競爭對手總和

英特爾近日宣布,其晶圓廠已處理超過100萬片採用高數值孔徑(High-NA)極紫外光(EUV)微影技術的晶圓,此里程碑超越了所有其他半導體製造商在相同技術上的累計產量總和。這項由T...

財智情報 AI 評分 7 分
英特爾突破百萬片High-NA EUV晶圓處理量 超車所有競爭對手總和

AI 重點精華 Takeaways

  • 英特爾宣布已處理超過100萬片High-NA(高數值孔徑)EUV晶圓,累計產量超越所有競爭對手的總和
  • 此里程碑將加速其14A節點(1.4奈米級)於2026至2027年的風險量產進程,並優化缺陷模型與製程學習曲線
  • 相較之下,台積電採取較保守策略,預期High-NA EUV要到2020年代後半才會進入量產;三星則聚焦於閘極全環(GAA)電晶體架構

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

多年來,台積電一直盡量避免公開評論其採用數值孔徑0.55的EUV曝光技術(即High-NA EUV)的相關計畫,因為該公司的研發團隊深知如何在不使用造價高達4億美元的掃描機的情況下...

財智情報 AI 評分 7 分
台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

AI 重點精華 Takeaways

  • 台積電宣布將於2030年開始將High-NA EUV曝光設備投入量產,首批採用傳統6×6吋光罩
  • 2031年將建立6×12吋光罩的試產線,目標2033年將6×12吋High-NA曝光系統導入先進節點量產
  • 根據台積電製程藍圖,A10或A11(1/1.1奈米等級)製程最有可能成為首批採用High-NA EUV掃描機的關鍵節點