📰 全部新聞

瀏覽所有最新財經新聞

瑞銀：新雲端股拋售無損AI熱潮看好超大規模雲端商與晶片製造商

瑞銀（UBS）發布最新研究報告指出，上週所謂「新雲端」（neocloud）類股的劇烈拋售，僅反映AI市場特定族群的融資與執行風險，並非整體人工智慧需求轉弱的訊號...

7 IMPT

Key Takeaways

瑞銀指出，上週新雲端（neocloud）類股遭拋售導致那斯達克指數單週下挫約4.5%，但這並不代表AI投資週期出現結構性裂痕
瑞銀預估2027年全球AI資本支出將成長33%至1.2兆美元，其中新雲端商僅佔不到一成，建議聚焦超大規模雲端商與優質半導體個股
GPU租金價格持續走揚，四年晶片今年漲幅近30%、兩年晶片年內漲幅達35%，顯示AI算力供不應求，需求基本面依然強勁

閱讀完整報導原文

#台積電 #艾斯摩爾 #EUV光罩 09/24 23:34

台積電與艾斯摩爾聯手推動12吋EUV光罩革命 AI晶片製造版圖重塑

台積電（NYSE:TSM）與艾斯摩爾（NASDAQ:ASML）日前宣布一項重大的產業合作計畫，將半導體產業從現行用於High NA EUV系統的6吋光罩，全面轉...

7 IMPT

Key Takeaways

台積電與艾斯摩爾於9月8日宣布共同推動半導體產業轉向12吋EUV光罩格式，目標2031年建立試產線、2033年實現12吋High-NA量產。
從財務體質來看，台積電憑藉更強的成長動能、獲利能力及AI驅動的需求，在短期營運效率上優於艾斯摩爾。
12吋光罩轉換需整個全球供應鏈從零開始改造，帶來資金與執行風險，艾斯摩爾承擔較多短期生態系轉型壓力。

閱讀完整報導原文

#ASML #Intel #半導體 09/23 08:32

ASML vs Intel：2026年AI浪潮下，半導體設備霸主與晶片製造老將的終極對決

隨著人工智慧在2026年重塑晶片產業，半導體公司正重新定義自身的角色。在艾司摩爾(ASML)與英特爾(Intel)之間做出投資選擇，需要深入理解這個產業中「不可...

7 IMPT

Key Takeaways

ASML為全球唯一極紫外光(EUV)微影設備供應商，2025年營收近375億美元，淨利率高達29.4%，自由現金流達122億美元，財務體質極為穩健
Intel雖獲美國政府89億美元注資取得約10%股權，但2025年仍出現淨虧損，代工業務單季虧損21億美元，轉型之路仍充滿挑戰
分析師最終選擇ASML，認為其不論哪家晶片廠勝出都能從中獲利；而Intel則適合願意承受波動、看好代工業務兌現的投資人小部位布局

閱讀完整報導原文

#半導體 #二維材料 #TMDs 09/22 16:30

破解矽基晶片物理極限新加坡新創Nexstrom用二維材料押注半導體下世代革命

數十年來，晶片製造商一直致力於透過縮小矽電晶體尺寸、在每片晶片上塞入更多電晶體的方式來提升半導體效能。然而，電晶體微縮本身伴隨著嚴峻的技術瓶頸——控制電子流動變...

6 IMPT

Key Takeaways

新加坡新創Nexstrom研發以二維過渡金屬二硫屬化物（TMDs）取代矽的半導體製程，目標解決電晶體微縮後的漏電、功耗與散熱難題
該公司完成1,200萬美元種子輪融資，累計募資達1,500萬美元，投資人包括Xora Innovation、Foothill Ventures及SEEDS
執行長Phoebe Tan預估設備將於2030至2035年間進入商業化量產，目前正與多家業界夥伴進行樣品測試

閱讀完整報導原文

#台積電 #英特爾 #亞利桑那 09/11 21:32

亞利桑那州晶片製造命脈瀕臨枯竭科羅拉多河水源危機推高成本

亞利桑那州作為美國跨黨派推動晶片製造業復興的核心重鎮，即將失去其每年從科羅拉多河抽取水量中超過四分之一的配額。這條綿延1,400英里的河流是該地區及其他西部...

7 IMPT

Key Takeaways

美國聯邦政府決定削減亞利桑那州科羅拉多河用水配額，自2027年起該州每年將損失至少76萬英畝呎的水資源，對半導體產業造成直接衝擊
台積電與英特爾在亞利桑那州積極擴建先進晶片廠，水資源消耗量龐大；台積電首座廠每日需約475萬加侖用水，全數完工後用水需求將進一步攀升
鳳凰城對工業與民生用水採統一費率，水價上漲將由全民與企業共同分擔，半導體產業面臨營運成本上升的長期挑戰

閱讀完整報導原文

#ASML #High-NA EUV #半導體微影 09/10 00:37

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術目標2033年量產、生產力提升40%

ASML正與客戶合作，研發適用於下一代High-NA（高數值孔徑）EUV微影設備的更大光罩格式。這項變革有望使該系統在打造最大型的AI與資料中心晶片時更加實用。...

7 IMPT

Key Takeaways

ASML正與客戶合作開發適用於下一代High-NA EUV微影設備的12吋光罩格式，預計2031年展示試產線、2033年進入量產。
新光罩將使High-NA EUV系統能處理與現行EUV設備同等尺寸的大型晶片，預估生產力可提升約40%，有助AI與資料中心晶片製造。
英特爾已將High-NA EUV用於筆電晶片，但台積電、三星尚未在高階邏輯晶片量產中大規模導入；SK海力士與三星則預計2028年用於DRAM量產。

閱讀完整報導原文

#台積電 #High-NA EUV #半導體製程 09/08 18:45

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

多年來，台積電一直盡量避免公開評論其採用數值孔徑0.55的EUV曝光技術（即High-NA EUV）的相關計畫，因為該公司的研發團隊深知如何在不使用造價高達4億...

7 IMPT

Key Takeaways

台積電宣布將於2030年開始將High-NA EUV曝光設備投入量產，首批採用傳統6×6吋光罩
2031年將建立6×12吋光罩的試產線，目標2033年將6×12吋High-NA曝光系統導入先進節點量產
根據台積電製程藍圖，A10或A11（1/1.1奈米等級）製程最有可能成為首批採用High-NA EUV掃描機的關鍵節點

閱讀完整報導原文

#印度半導體 #晶片製造 #塔塔電子 09/06 12:45

印度加碼半導體布局推動從「印度製造」升級為「印度設計」

印度正積極強化國內半導體產業布局，致力降低對進口晶片的依賴，目標是成為全球晶片製造、設計與相關技術的主要樞紐。根據最新報導，印度已啟動第二期半導體使命計畫，預算...

7 IMPT

Key Takeaways

印度啟動第二期半導體使命計畫，預算約 130 億美元，聚焦供應鏈全方位發展與人才培育
迄今已核准 12 個半導體製造專案，分布於 6 個邦，美光、Kaynes Semicon 與 CG Semi 已於今年展開商業量產
塔塔電子與台灣力晶合作的古吉拉特邦晶圓廠預計 12 月產出首批晶片，並與荷蘭 ASML 簽署 110 億美元合作備忘錄

閱讀完整報導原文

#三星電子 #SK海力士 #AI半導體 09/06 08:45

AI晶片需求爆發三星、SK海力士加速布局美國與日本生產基地

美國與日本正崛起為三星電子與SK海力士下一個關鍵的晶片生產基地，這兩家韓國晶片大廠正積極擴大產能，以滿足人工智慧（AI）半導體急速攀升的需求。兩國各具優勢。...

7 IMPT

Key Takeaways

美國與日本成為三星電子與SK海力士擴產AI半導體的核心據點，美國具客戶地利與補貼優勢，日本則擁有完整供應鏈與政府補助加持
SK集團會長崔泰源看好日本為與鎧俠合作生產的極具吸引力選項，並指出日本在半導體設備與材料供應商的高度集中為關鍵優勢
美國對半導體祭出針對性關稅壓力，迫使外國晶片廠擴大在美生產，三星德州廠年底量產、SK海力士印第安納廠2029年第三季量產HBM4E

閱讀完整報導原文

📰 全部新聞

瑞銀：新雲端股拋售無損AI熱潮 看好超大規模雲端商與晶片製造商

Key Takeaways

台積電與艾斯摩爾聯手推動12吋EUV光罩革命 AI晶片製造版圖重塑

Key Takeaways

ASML vs Intel：2026年AI浪潮下，半導體設備霸主與晶片製造老將的終極對決

Key Takeaways

破解矽基晶片物理極限 新加坡新創Nexstrom用二維材料押注半導體下世代革命

Key Takeaways

亞利桑那州晶片製造命脈瀕臨枯竭 科羅拉多河水源危機推高成本

Key Takeaways

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術 目標2033年量產、生產力提升40%

Key Takeaways

台積電2030年導入High-NA EUV曝光技術 A10或A11製程有望率先採用

Key Takeaways

印度加碼半導體布局 推動從「印度製造」升級為「印度設計」

Key Takeaways

AI晶片需求爆發 三星、SK海力士加速布局美國與日本生產基地

Key Takeaways

瑞銀：新雲端股拋售無損AI熱潮看好超大規模雲端商與晶片製造商

破解矽基晶片物理極限新加坡新創Nexstrom用二維材料押注半導體下世代革命

亞利桑那州晶片製造命脈瀕臨枯竭科羅拉多河水源危機推高成本

ASML力推12吋光罩High-NA EUV技術目標2033年量產、生產力提升40%

印度加碼半導體布局推動從「印度製造」升級為「印度設計」

AI晶片需求爆發三星、SK海力士加速布局美國與日本生產基地